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真空镀膜机的应用方法和优点介绍
日期: 2021.8.19

真空镀膜机的应用方法和优点介绍

在镀膜领域,涂膜后试样的厚度是影响涂膜性能的重要因素。因此,在评估薄膜样品的性能时,需要测试不同厚度薄膜样品的性能。对于真空镀膜机,这通常需要多个样品制备。

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磁控溅射的种类介绍和工作原理
日期: 2021.8.19

磁控溅射的种类介绍和工作原理

磁控溅射有很多种。各有其工作原理和应用对象。然而,有一个共同点:磁场和电场的相互作用使电子绕靶面旋转,从而增加了电子撞击氩产生离子的可能性。产生的离子在电场作用下与靶面发生碰撞,从而溅出靶材。

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薄膜设备运行出现张力波动的原因
日期: 2021.7.22

薄膜设备运行出现张力波动的原因

薄膜张力是指塑料薄膜在牵引和卷绕过程中的张力。张力控制是薄膜生产和加工中应用比较 广的技术,如流延、双向拉伸、纵向拉伸、薄膜分切、复卷、覆膜、覆膜等,张力控制的质 量直接影响到生产效率和产品质量。

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导电布应该怎样进行分类
日期: 2021.7.08

导电布应该怎样进行分类

导电布是以纤维布(常用的聚酯纤维布)为基材制成的。经过预处理后,采用电镀金属涂层使其具有金属特性,成为导电纤维布。可分为镀镍布、镀金布、镀碳布和铝箔纤维复合布。外观朴素,方格分明。

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真空镀膜机设备采购要点如下介绍
日期: 2021.6.17

真空镀膜机设备采购要点如下介绍

真空镀膜机在产品表面处理方面有较大的优点。与其他表面处理设备相比,这种涂布机的加工需要在真空环境下进行。这种镀膜方法可以“屏蔽”一些外界因素,这是这种镀膜机的优点之一。

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磁控溅射技术的优缺点分析介绍
日期: 2021.6.03

磁控溅射技术的优缺点分析介绍

磁控溅射技术自诞生以来,得到了较快的发展和较广的应用,对其他镀膜方法的发展产生了很大的影响。通过大量的实践,青州市皇冠充值游戏有限公司总结出这种技术的优缺点,如下文所示。

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真空镀膜机的介绍
日期: 2021.5.19

真空镀膜机的介绍

一、真空镀膜机冷却配套冷水机的作用 镀膜机冷水机组的作用是维持镀膜机的温度,从而达到比较高的精度、高效率的温度控制的目的。以往,在没有冷水机组的情况下,自然水和冷却塔不可避免地受到自然温度的影响,这种

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光学镀膜机的维护和保养
日期: 2021.4.22

光学镀膜机的维护和保养

光学镀膜机主要由真空镀膜机房、抽真空机组和电气柜(控制柜、电子枪柜)组成。较广的应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。

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磁控溅射设计体系的建立
日期: 2021.4.08

磁控溅射设计体系的建立

磁控溅射涂层的厚度均匀性是间接测量涂层过程的标准之一,它涉及到涂层过程的各样的方面。因此,需要建立一套完整的溅射膜厚度均匀性设计体系,制备薄膜厚度均匀性好的优良的薄膜,并对溅射膜的各方面进行分类、总结

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导电布的应用和功能介绍
日期: 2021.3.25

导电布的应用和功能介绍

导电布由尼龙或聚酯纤维制成,涂有铜和镍。纤维表面的底层由高导电性铜制成。纤维表面为抗氧化、耐腐蚀的镍金属。铜和镍的结合提供了高导电性和屏蔽效能。

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磁控溅射的种类有哪些
日期: 2021.3.11

磁控溅射的种类有哪些

磁控溅射包括多种。它们有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点:利用磁场和电场的相互作用,电子会绕目标表面旋转,从而增加电子撞击氩产生离子的概率。在电场作用下,产生的离子与目标表面碰撞,并溅出目标。

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磁控溅射技术的优点分析
日期: 2021.2.05

磁控溅射技术的优点分析

磁控溅射镀膜是现代工业中不能缺少的技术之一。溅射镀膜技术较广的应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、防腐膜、磁性膜、减反射膜、减反射膜及各装饰膜。在国防和国民经济生产中发挥着越来越重要的作用。

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导电布的一般情况介绍
日期: 2021.1.23

导电布的一般情况介绍

导电布包覆泡棉 (FOF) EMI 衬垫具备普遍的优良电磁干扰屏蔽性能,为电磁干扰提供优良的解决方案。衬垫由布包裹柔软的泡棉组成,提供非导电或导电压敏胶带(PSA),并可在胶带上附上一层离型膜 (ER

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磁控溅射的新发展分析
日期: 2021.1.09

磁控溅射的新发展分析

辉光等离子体溅射的基本过程是在辉光等离子体中的高能离子作用下,将负电极的靶原子从靶中溅射出来,然后凝聚在衬底上形成薄膜;在这个过程中,靶表面同时发射出二次电子,起到电子作用维持等离子体稳定存在的关键作

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导电布的性能和区别
日期: 2020.12.26

导电布的性能和区别

导电布是以纤维布(常用的聚酯纤维布)为基材制成的。经过预处理后,采用电镀金属涂层使其具有金属特性,成为导电纤维布。可分为镀镍布、镀金布、镀碳布和铝箔纤维复合布。外观朴素,方格分明。

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磁控溅射的工作原理
日期: 2020.12.12

磁控溅射的工作原理

磁控溅射是一种物理气相沉积(PVD)技术。一般溅射法可用于制备金属、半导体、绝缘体等材料,具有设备简单、易于控制、镀膜面积大、附着力强等优点。20世纪70年代发展起来的这种方法实现了高速、低温和低损伤

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光学镀膜机的薄膜的特点是什么
日期: 2020.11.28

光学镀膜机的薄膜的特点是什么

光学薄膜是在高真空镀膜腔中实现的。传统的镀膜工艺需要增加基底温度(通常约300℃),而优良的技术,如离子辅助沉积(IAD)可以在室温下进行。光学镀膜机不但可以制备出比传统镀膜工艺具有更好物理性能的薄膜

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导电布的电阻测试
日期: 2020.11.14

导电布的电阻测试

导电布是由尼龙或聚酯纤维制成,涂有铜、镍和其他金属。光纤表面的底层由高导电性的铜制成。纤维表面为镍,具有抗氧化性和耐腐蚀性。铜和镍的结合提供了高导电性和屏蔽效能,并具有抗氧化和防腐蚀的特点。

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薄膜设备的生产功能和特点
日期: 2020.10.31

薄膜设备的生产功能和特点

工业上生产塑料薄膜设备有压延法和挤出法两种。挤出过程分为挤出吹塑、挤出拉伸和挤出铸造。目前应用比较广的生产工艺是挤出吹塑、挤出拉伸和挤出铸造,尤其是聚烯烃薄膜,而压延主要用于生产一些PVC薄膜。

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磁控溅射的特点
日期: 2020.10.10

磁控溅射的特点

磁控溅射常见的反应气体有氧、氮、甲烷、乙炔、一氧化碳等,在溅射过程中,根据反应气体压力的不同,反应过程可以发生在衬底上,也可以发生在阴极上(反应结束后,以化合物的形式迁移到基片上)。当反应气体压力较高

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